Oбщая структура типа «C» обеспечивает непрерывное сохранение высокой точности обработки на высоких скоростях.
Литейные части станка изготовлены из высококачественных полимерно-песчаных материалов, которые многократно подвергались отжигу и напряжению для обеспечения наилучшей точности и долговечности и не деформируются после длительного использования.
С «T»-образной основой станины даже при наличии крупногабаритной детали на левом и правом концах станка, станок все равно сохраняет хорошую точность и стабильность обработки. Все оси приводятся в действие непосредственно серво-приводными двигателями переменного тока и шариковыми винтами высокой точности, а ось «Z» использует мощные серво-приводные двигатели переменного тока.
Все механические части подвергаются серии контроля процесса, такого как отделка — проверка на немецком ZEISSCMM — финишная обработка — проверка британским лазерным интерферометром RENISHAW и другие этапы контроля процесса, чтобы обеспечить лучшую точность и стабильность.
Рабочий стол, не деформируется при длительном использовании. Идеальная механическая структура, высокая конфигурация и строгий процесс производства позволяют достигнуть соответствующей точности в пределах 1 микрона.
Компактная концепция конструкции корпуса, топливного бака и электрического шкафа, с малым занимаемым пространством.
Технические характеристики :
Specifications | C40 |
Working fluid tank size (L*W*D) | 980*650*400mm |
Workbench (length and width) | 680*420mm |
X-axis travel | 400mm |
Y-axis travel | 320mm |
Z-axis travel | 320mm |
Maximum distance from electrode plate to table | 600mm |
Workbench maximum weight | 500kg |
Maximum electrode weight | 50kg |
Dimensions (L*W*H) | 1500*2200*2400mm |
Machine weight | 2800kg |
The input power of the whole machine | 9kw |
Maximum machining current | 50A |
Maximum processing power | ≥500mm³/min |
Minimum electrode loss | 0.1% |
best surface roughness | Ra≤0.1mm |
Minimum mechanical drive equivalent | 1mm |
Resolution of each axis | 0.4 |
Input | Keyboard, Computer mouse, Touch screen |
Position command method | Incremental/Absolute |
EDM condition registration function | 1000 conditions can be registered C000-C999 |
Bias function | 1000 offsets can be registered H000-H999 |
Subroutine nesting level | 50 |
Q instruction nesting level | 7 |
number of coordinate systems | 60 |